ICP-500全自动感应耦合等离子体刻蚀机-北京金盛微纳科技有限公司手机版

详细介绍

本产品是“感应耦合离子体刻蚀机(ICP)”的全自动产品。

详细描述

本产品具有三种功能：等离子体刻蚀(PE)、反应离子刻蚀(RIE)、感应耦合等离子体刻蚀(ICP)。其刻蚀原理不尽相同，既有纯化学的，也有物理与化学相结合的模式。它既可以进行细线条（纳米）加工，又可以进行体加工。

本设备具有选择比好，刻蚀速度快、重复性好等特点，它较RIE具有更好的综合刻蚀效果且应用范围更广。可刻蚀的材料主要有Poly-Si、Si、SiO2、Si3N4、W、Mo、GaN、GaAs等。

本产品通过对真空系统、工作压强、射频电源匹配、气体流量及工艺过程的全自动控制，使工艺的重复性、稳定性、可靠性得到有效保证，并能精确地控制图形的剖面，从而获得好的刻蚀效果。

本产品通过软、硬件相互配合的互锁、智能监控、在线状态记忆、断点保护等设计，结合各种硬保护装置、使设备的安全性、可靠性得到有效保证。

本设备主要用于微电子、光电子、通讯、微机等领域的器件研发和制造。

产品主要性能指标

型号	ICP-500
真空系统	分子泵机组
刻蚀室数量	单室
刻蚀室规格	ø300×280mm
电极尺寸	ø200mm
刻蚀材料	Poly-Si、Si、SiO₂、Si₃N₄、W、Mo、GaN、GaAs等
刻蚀速率	～4 μ/min （与刻蚀材料和工艺有关）
刻蚀不均匀性	≤±5%
自动化程度	真空系统、下游压力闭环控制、射频电源、气体流量、工艺过程全自动控制。
人机界面	Windows环境、触摸屏操作
操作方式	全自动方式、非全自动方式
自动化装置的选配	可选择进口件或国产件