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ICP-500全自动感应耦合等离子体刻蚀机
本产品是“感应耦合离子体刻蚀机(ICP)”的全自动产品 参考价面议 -
RIE-501全自动反应离子刻蚀机
本产品是“标准型反应离子刻蚀机（RIE）”的全自动产品 参考价面议 -
IBE-200Z离子束刻蚀机
本产品是利用低能量平行Ar+离子束对基片表面进行轰击，表面上未被掩膜覆盖部分的材料被溅射出，从而达到选择刻蚀的目的，它采用纯物理的刻蚀原理 参考价面议 -
ICP-5000全自动感应耦合等离子体刻蚀机
本产品是在“全自动ICP”的基础上增加了进样室、真空锁和机械手自动取送样片装置而成的设备 参考价面议 -
RIE-3反应离子刻蚀机
本产品通过物理与化学相结合的方法，对很细的线条（亚微米以下）进行刻蚀以形成精细的图形 参考价面议 -
MSP-620全自动磁控溅射台
本产品是“标准型磁控制溅射台”的全自动产品 参考价面议 -
全自动型反应离子刻蚀机RIE-802
详细描述本设备采用PLC控制，触摸显示屏操作 参考价面议 -
全自动型等离子体化学气相淀积台(PECVD-801)
详细描述本设备通过对真空系统、工作压强、射频电源匹配、气体流量及工艺过程的全自动控制，使工艺重复性、稳定性、可靠性得到有效保证 参考价面议 -
(带Load_Lock装置)全自动型感应耦合等离子体刻蚀机ICP-8000
本设备采用PLC控制，触摸显示屏操作 参考价面议 -
标准型等离子体化学气相淀积台(PECVD-1D)
详细描述本设备通过对工艺的有效控制，可获得较好的均匀性、粘附性以及较好的重复性，并广泛应用于相关领域的器件研发和制造 参考价面议 -
RIE-24000反应离子刻蚀机(带Load_Lock装置)
本设备采用PLC控制，触摸显示屏操作 参考价面议 -
(带Load_Lock装置)全自动型感应耦合等离子体刻蚀机(ICP)
详细描述本产品具有三种功能：等离子体刻蚀(PE)、反应离子刻蚀(RIE)、感应耦合等离子体刻蚀(ICP) 参考价面议