等离子刻蚀设备CPN-DK-P290型/CPN-P290A型

等离子刻蚀设备CPN-DK-P290型/CPN-P290A型

参考价: 面议

具体成交价以合同协议为准
2023-06-29 12:37:45
87
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中普尼实业集团(海南)有限公司

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产品简介

本设备是为淀积设备配套而设计的,主要用于半导体集成电路制造过程中对氮化硅、多晶硅的干法腐蚀;而且还能刻蚀二氧化硅、铬、氧化铬等各种介质膜和金属膜

详细介绍

本设备是为淀积设备配套而设计的,主要用于半导体集成电路制造过程中对氮化硅、多晶硅的干法腐蚀;而且还能刻蚀二氧化硅、铬、氧化铬等各种介质膜和金属膜。反应室采用平行电极腐蚀精度高。是一台操作简单、用途广泛、价格性能比高的设备。

主要技术参数:

1、 主机电源:380V/50Hz 2.5Kw  

 2、反应室尺寸: 344×105mm

 3、电极 直径  :Ф290mm  

4、两极板间距  :10~30mm可调        

5、反应室极限真空度  :优于 4Pa

6、装片量  :    Ф 35mm  44片 、 Ф 50mm  20片 、 Ф75mm  8片 、 Ф100mm  5片

7、高  频  源  :功率0~1000W可调,P290型为自激式电源频率范围10Mc~13Mc,P290A型为它激式电源,频率为13.56Mc,                             带有功率匹配和功率计

8、工作周期:小于20分钟,每小时可完成3次刻蚀            

9、真空泵: 2X-4型

10、外型尺寸:1120×550×1260(mm)              

11、 净重:150Kg


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