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CPN-PSD-100/OP型净化显影机亦是CPN-PS系列产品的基础品种之一，是半导体器件制造过程中的专用工艺设备，采用*的单片微型机程序自动控制，实现喷雾显影工艺，电路清晰完整，由于控制系统稳定，在进行工艺中不飞片，显影速度快（30S）和节省显影液，主要用于科研和生产单位大规模集成电路和其他半导体器件的光刻工艺中作显影之用。
一、本机显影工艺采用了*的喷雾方式，可根据工艺要求喷雾状态电机的转数，程序时间的工艺参数都可在很宽的数值范围内调整。其程序为延时吸片-显影-漂洗-干燥-延时复位。
二、采用喷雾显影工艺后电路图形清晰完整，特别是对较细线条电路采用此工艺可得到很高的效果。
三、本设备除能显影工艺外,亦可进行涂胶工艺.
主要技术指标：
1、显影工位：1个工位
2、程序时间：显影 1-99秒或999秒
3、漂洗 1-99秒或999秒
4、干燥 1-99秒或999秒
5、旋转器转数：500-8000转/分（连续可调）
6、硅片直径：Φ1—Φ100mm
7、净化效果：100级（美国联邦标准）
8、操作区风速：0.3-0.5米/秒
9、气流状态：垂直层流
10、外形尺寸：1620mm（高）*650（宽）*800
11、整机包装重量：150KG
12、氮气源：N2管道或钢瓶（进气压力0.2-0.3MP/cm2）
