双面光刻机CPN-MASK-5075本型号光刻机是专为生产中、大规模集成电路、CCD、表面波、磁泡、微波等器件的光刻需要而设计制造的。它可以将两块掩模上的各种图案经紫外光束的曝光，从上下两面分别或同时转印至硅片或其它基片的正反面上，再经其它工序的处理，从而获得完整的微电子器件。

本机为适应各电子器件厂对CPN-MASK-3575型光刻机的使用习惯，故保留了CPN-MASK-3575型光刻机部分操作程序，尤其是为了提高光刻的质量，本机的结构、精度以及性能等方面作了大幅度的改进。为减少使用者的疲劳，显微镜采用双目观察和平视场物镜，成像清晰，景深较长。

由于本型号光刻机具有上述种种特点，是成批生产微电子器件较为适合的光刻设备。