设备概要：
适用尺寸：6”~ 8”Wafer基材。
基本规格：
Demension:530X600X450mm
外观材质：PP板组合焊接而成，可以耐酸碱侵蚀。
操作盆罩：SUS制，圆盆型设计。
盆罩掀盖：分离式透明PVC上盖。
吸盘规格：一组铝制吸盘精密研模阳极保护。
操作方式：手动直接输入。
入料方式：手动给料。
液体种类：光阻剂、溶剂。
马达：AC Servo Motor（转速：10~5000 RPM）。
含真空帮浦（附PP防尘外罩）。
真空渗液保护：有，间接式防护设计。
真空简检知：有（可数位设计真空值kpa下限保护）。
保护装置：有。
保护制御：有一本装置的全部状态，异常检出。
控制系统：-软件：PLC。
真空表头：二组视窗，可显示设定值与实际值。
使用操作界面：中文彩色触控面板。
配方模块：100组配方设定。
段方步序：每一配方模块均设30段步序。
操控方式：7寸中文彩色触控人机界面系统，附有繁体、简体中文、英文操作界面，并有主轴转速曲线图。
电源：单相220V，10A。
附操作手册一份
