单片湿法刻蚀设备，能适应HF,HCL,H3PO4等多种刻蚀液，可刻蚀金属有Gr、Ni、Ti、Cu、Au等。本设备工作过程中由摆臂系统旋转交替喷液，多层Cup结构可实现不同刻蚀液的分类排放与回收。专业的工艺腔体结构，在刻蚀电镀或溅射形成的金属膜的前提下，既能保证刻蚀的均匀性、刻蚀率，还可以保证各种化学品的使用安全性。本设备能满足纵向刻蚀深度尺寸较大，横向刻蚀深度精度高的工艺要求，在刻蚀工艺完成后，晶圆刻蚀沟槽和深孔等图形侧壁陡直规整，均匀性可达5%以内。 晶片尺寸
2-12寸

主要技术参数
1、上下料方式： 高效机械手自动传送
2、离心机转速
额定转速： 2000 rpm
最小调整量： 1rpm
转速精度： ±3rpm（50 rpm～2000 rpm）
3、夹持方式： 真空吸附
或多点支撑、四角夹紧、机械安全限位的方式（可选）
4、药液回收循环使用功能。
5、刻蚀液加热：在线加热器，MAX： 50℃±2℃
6、背喷功能：氮气，1路
7、刻蚀液过滤器：0.2um
8、灭火系统：二氧化碳灭火系统

应用行业
广泛应用于LED、分立器件、*封装、科研等领域。