-
微波等离子清洗机
WB300采用高密度微波等离子技术，用于半导体生产中晶圆的清洁和等离子体预处理，微波等离子高度活性、高效，且不会对电子装置产生离子损害。 参考价面议 -
卷材真空等离子处理系统
卷材等离子处理系统,触摸电脑+PLC多步流程全自动控制,全电路检测,用于PTFE/PI薄膜、FPC柔性电路板、电池隔膜等卷筒材料清洗、刻蚀、活化、接枝处理,可选择中频、射频、微波等离子处理模式。 参考价面议 -
太阳能电池等离子刻蚀机
用于太阳能电池硅片边缘刻蚀制程，采用*的高密度等离子(ICP)，刻蚀速率高，全进口配置组装。 参考价面议 -
PCB等离子去胶渣机
GDR-1200PM等离子去胶渣机由真空腔体及高频等离子电源、抽真空系统、充气系统、自动控制系统等部分组成，是针对PCB、FPC电路板机械钻孔及激光钻孔沉铜前胶渣刻蚀制程开发的机型 参考价面议 -
GDR-60G等离子去光阻机
采用电感耦合高密度等离子体(ICP)，能快速去除晶圆上之残留光阻，达到晶圆表面洁净，具有蚀刻率高，无电极污染，离子能量低，不损伤基板等优点。 参考价面议 -
真空等离子处理机
立式大型机，逻辑电路半自动控制，数字面板显示，操作维护简单，适用于橡胶、塑料、玻纤、树脂等普通材料大批量表面改性、活化处理，高产能低价位。 参考价面议 -
GDR-20PR真空等离子清洗机
台式小型机，PLC人机自动控制，简单易用，用于实验室及小批量工业生产中材料表面清洗、
刻蚀、活化等工艺。 参考价面议 -
GDR-10PR台式等离子清洗机
台式小型机，PLC人机自动控制，内部无电极，用于低污染及高洁净材料表面清洗、刻蚀、活化等工艺。 参考价面议