CPI-400 纯化学抛光机

CPI-400 纯化学抛光机

参考价: 面议

具体成交价以合同协议为准
2023-10-08 10:31:56
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北京艾姆希半导体科技有限公司

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产品简介

CPI系列纯化学抛光设备由强防腐蚀材料构成，适用于腐蚀抛光溶剂，如溴甲醇，过氧化氢或酸腐蚀剂等。实现无划痕、无橘皮效应的高质量表面抛光。

详细介绍

  • ● 几乎为零的机械作用力，实现无划痕、无橘皮效应的高质量表面抛光。
    ● 防腐材料，由聚丙烯，涂PVDF和环氧的聚亚安酯制成，可适用于多种侵蚀剂液，如溴-甲醇等。
    ● 夹具配有定位槽选配功能，确保样品稳定性和一致性。

     
  • ● 加工样品尺寸（3×4＂），（2×3＂和1×4＂），（1×3＂和2×4＂），（3×3＂和3×4＂）等多种尺寸组合可根据用户工艺要求定制。
    ● 滴液速度、磨盘转速可设置，盘速0-120rpm，操作方便。
  • ● 时间从0到10个小时自由调节，到达设定时间时，设备可以设置继续运行，也可以设置成自动停止。
    ● 半导体晶片和光晶体的高精度腐蚀抛光，并提供晶体最小应力的解决方案。
  • • 用于红外探测和其它器件的碲锌镉，碲镉汞，锑化铟，锑化镓等。
    • 用于薄脆的半导体材料，如砷化镓，磷化铟和多种Ⅲ-Ⅴ族,Ⅱ-Ⅵ族化合物等。
    • 用于所有需要电子/光学级抛光的高标准应用，如硫化镉及类似的光电材料。
  • 应用的范围包括:
    • MEMS
    • 半导体器件
    • 半导体衬底
    • 封装
项目 参数
电源: 220-240v 10A
110v 10A
50-60HZ
环境温度: 20℃±5℃
环境湿度: < 80%="">
晶圆尺寸: ≤112mm
工作盘直径: 355mm/406mm
盘转速: 0-120rpm
定时时间: 0-10小时
进料通道: ≥2
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