半自动光罩对准曝光机
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德扬光电有限公司
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用PLC程式控制,使多个手动动作能连动,减少手动操作的程序,系统简单,性能可靠,适合量产线使用。
紫外光源机型有功率 : 350W,500W,1000W,2000W,3500W,5000W 。
曝光光源尺寸 : 4″,6″,8″,10″,12″ 。
波长 : NUV(含365nm, 400nm, 435nm) ,光源平行半角 : 1.5~2.5度(依出光口径)。
均匀度: +-3~5% ,高压汞灯泡及电源供应器。
采用可变倍率镜头方便对准操作,标准倍率 50X-300X, 配合CCD影像系统,
19吋LCD萤幕, 打光有LED同轴光或环形光, 观测的两点间距 4cm-15cm ,
可选配镜头扫描台以快速移动镜头, 可选配背面对准影像系统。
光罩真空吸盘 : 上吸式或下吸式4″,5″,6″, 7″, 9″ 。
晶圆真空Chuck : 2″, 4″, 6″,8″圆形或方形, 具光罩晶圆水平校正功能。
曝光模式有 : 真空接触式与近接式,可调整真空吸附力大小, X,Y轴调整 10mm,调整解析度 2um, Z轴可调整 5mm,
千分表解析度 1um, 上光罩开启以取放基板。
采PLC半自动操作系统, 可切换手动及自动模式。
操作流程 : 置基板, (按键)上光罩关闭,镜头移入做对准动作,(按键)上光罩下压,镜头移出灯源移入曝光(计时),
灯源移出取,上光罩开启,取基板。
曝光快门控制 : 计时器控制 0.1-999秒。
能量控制 : 0.1~9000mJ/cm2。
具四个防震气垫,具调整脚及移动轮, 铝挤型机架加铝板及黄色PVC抗静电包覆机台,开数个操作与维修门窗及视窗。
产量依对位精度及曝光时间而不同可达每分钟曝三片,
采真空接触曝光图形解析可达1um以内(正光阻厚 1um),
采近接式曝光依晶圆与光罩间距设定约在 3~5um。
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