涂胶显影机是手动型匀胶显影机,适合6''和8''的实验室涂胶和显影应用。涂胶显影机适合不同类型的光刻化学试剂，通过*的腔体设计，提供均匀、精确和重复性高的涂胶结果。
涂胶显影机可以完成尺寸为150mm或200mm的衬底涂覆功能。LabSpin涂胶机可以应用于非常广泛的衬底材料，从碎片到150/200mm圆片或100x100mm/150x150mm方片。非常小的设备尺寸只需要很小的占地空间。
涂胶显影机LabSpin设计了大量的选配件，适用于不同应用的需求。该涂胶系统可以装配针筒或自动滴胶臂、边缘涂覆、去厚胶边、积水式显影等等多种配置。
涂胶显影机涂胶方法
在旋涂法中旋转衬底被均匀地涂以溶液。 溶液，如光致抗蚀剂，通常分注在晶圆中心。 .然后加速度、最终转速和各步骤的持续时间使得涂料的一部分经离心分离形成厚度均匀的膜。 除了工艺参数外，溶液或光致抗蚀剂的物理性质决定了膜的厚度。
涂胶显影机显影技术
在此工艺中，一定量的显影剂被滴在曝光后的衬底上，并通过适度的旋转分散开。 显影液因其表面张力在晶圆上形成凸状的液面（“Puddle”）。 当显影时间结束后，通过提高旋转速度甩干晶圆上的显影液。 然后，用去离子水冲洗晶圆并同样提高转速甩干。 这种方法的优点是，只需使用少量显影液，就能提供优异的显影结果。

浸置式显影法不得用于显影液达到饱和时，例如当必须除去大量显影后的光刻胶时或者凹凸图形阻碍了更换显影液时。 在这些情况下，需多步使用浸置式显影或者使用喷涂式显影 。