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HD-550L 摄像头模组清洗机是摄像头模组专业清洗机,用于摄像头类产品,如wafer,CMOS, Holder等表面微尘清洗,摄像头类模组类产品表面粉尘,杂质专用清洗机器;镜面锈钢一体化封闭机身,对工作环境无污染,适合无尘车间使用要求;可更换清洗盘清洗多种产品,清洗盘按产品定做.
详情说明
机器简介:
HD-550L是摄像头模组专业清洗机,用于摄像头类产品,如wafer,CMOS, Holder等表面微尘清洗。
机器特点:
1、摄像头类模组类产品表面粉尘,杂质专用清洗机器;
2、镜面锈钢一体化封闭机身,对工作环境无污染,适合无尘车间使用要求;
3、可更换清洗盘清洗多种产品,清洗盘按产品定做;
4、PLC自动控制,操作方便快捷;
5、透明防爆前门,安全作业,便于观察;
6、全系统仪表显示,随时监控清洗状况;
7、采用二流体清洗,清洗精度高,对产品零损伤,纯水消耗量极小;
8、旋转式喷杆,避免二次污染产品;
9、配备静电消除装置、腔壁加热装置,辅助清洗达到效果;
10、配备2级空气过滤系统,压缩空气符合ISO8573、1标准;
11、机身紧凑,占用面积小;
12、使用超纯水清洗,符合RoHS标准。
机器规格:
设备外观尺寸 | 880mm(L)×960mm(W)×1880mm(H) | |
清洗盘规格 | 定制(清洗盘直径<ø550mm) | |
清洗方式 | 二流体清洗 | |
干燥方式 | 高速离心甩干 | |
电源供应 | AC380V 50HZ | |
总功率 | 7KW | |
耗电量 | 清洗时: 3.5kw/h | 待机时: 1kw/h |
传动马力 | 3HP | |
环境过滤方式 | 0.3μm;99.999% | |
空气过滤方式 | 1μm×1;0.01μm×1 | |
离心转速 | 100-1500RPM | |
纯水消耗量 | 0-7L/Min | |
气体消耗量 | 10-30m³/H | |
清洗压力 | 液体压力:3-8Kgf/cm² 空气压力:0.2-0.5Mpa | |
DI水供应 | 流量:>7LPM 电阻率:>17MΩ | |
气源供应 | 压力:0.45-0.7Mpa;流量:>30m³/H(洁净度符合清洗要求) | |
纯水入口径 | ø12mm软管或PT1/2″内螺纹 | |
气源入口径 | ø12mm气管 | |
排水出口径 | PT 1″内螺纹 | |
排气口口径 | 4″×2(需加强抽风,风速大于3m/sec) | |
机器净重 | 450KG |