RE-2000系列光刻机

型号：2000D（大面积紫外光刻机）

一.技术特征

用途：在平板显示器、大尺寸光栅、码盘等刻划中具有突出的功能与用途。

技术特点：

1、采用3500W直流高压汞灯；

2、 采用蝇眼透镜实现高均匀照明；

3、 实现超大面积光刻；　　　

4、采用CCD自动对准，自动化程度高；

5、性能可靠、操作方便。

主要技术指标：

1、 曝光面积：430 mm×430 mm；　

2、分辨力：3μm；

3、对准精度：≤±1μm ；　　　　　　

4、掩模尺寸：16英寸、17英寸、18英寸、20英寸；

5、照明均匀性：±10%（430 mm×430 mm范围）；

6、掩模相对于样片运动行程：X: ±6mm; Y: ±6mm;θ: ±6度；