一、设备概述
曝光机设备专门用于FILM黄光制程而设计制作的专用设备，系统采用进口平行光源、双工位抽屉进出曝光平台交替工作进行FILM湿膜、干膜曝光。双工位平台真空吸附将FILM与MASK贴紧，曝光解析度20UM。
二、设备规格以及主要技术指标
◆产品规格:有效曝光面积400MM x 500MM曝光平台面积> 500MM x 600MM
◆电源: AC380V 3f 50HZ 7KVA◆机台外尺寸: W1350MM x L3250MM x H2350MM◆曝光方式:单面曝光玻璃VS玻璃x 2组，采用电磁锁控制◆曝光灯管: 5KW x 1PCS(平行光曝光灯)曝光光强> 20MW/Cm，灯管保用800H◆光学系统:采用进口曲面MIRROR反射光学系统◆曝光均匀度: > 90%◆冷却系统:灯管:外部冰水冷却内循环水.台面:强制气冷式◆曝光控制器:智慧型人机界面及曝光能量控制(能量模式及时间模式)◆真空系统: 400MMHG以上◆冷水系统:冰水7-12C流量60L /MIN,进出水管径1”◆灯源: UV能量积分器进行曝光能量设置和控制主动风冷式降温保护(有紧急
停止保护)
◆空压系统: 4-7KF/CM2,中12MM, 200L /MIN◆平行半角: DA<2。◆曝光精度:线路宽30UM，线间距30UM◆曝光能量设置: 365NM◆点灯计时:配置时间计时器，可清零◆平台平面精度: 0.02MM内◆平台真空:平台真空将FILM与MASK贴紧(使用鉻版时可不用）◆平台进出曝光区:上下框架交替进出◆机内环境: CL ASS100内◆检测系统:程序及传感器检测动作到位状况◆灯管保护:灯室过热检知及门打开时UV灯强制熄灭
