日本DNK科研曝光机MX-1205光刻机-塔玛萨崎电子（苏州）有限公司手机版

产品简介

简单介绍：产品信息实验・研究用曝光装置简练设计的手动式整面单次曝光装置。主要特长对应玻璃、Wafer、胶片等基材的实验研究用手动整面单次曝光机。也适合小批量生产。可选择接触曝光(软接触、硬接触)和近接曝光。对应*大尺寸为500mm×500mm的基板。根据用途和基板尺寸,配置有*佳组合的光学系统。其中包括:超高压水银灯(500W､1kW､2kW､3.5kW)、各种光学镜、特殊镜头、聚光镜等

详细介绍

详情介绍：

光刻机介绍

曝光装置 MA-1200 基板追大尺寸 200 x 200mm ø4″ ～ ø6″

光源超高压水银灯：500W or 1kW

曝光装置 MA-1400 基板追大尺寸400 x 400mm

光源超高压水银灯：2kW or 3.5kW

LED,LN曝光装置MA-4000 圆晶尺寸Ø2～4″或者Ø4～6″

光源超高压汞灯：500W 或 1kW

Ø200mm/Ø150 mm 对应曝光装置MA-4301M 材料SI 玻璃， 对齐精度自动对齐：+/- 1 μm（
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Ø300mm对应曝光装置MA-5301ML 光源超高压汞灯：3.5kW Ø200mm规格也可对应

マスクレス露光装置MX-1201 曝光扫描速度43.94mm/s 有效曝光区域200 x 200 追大曝光量（※3）245/70/245+70
マスクレス露光装置MX-1201E 曝光扫描速度22.5mm/s 有效曝光区域200 x 200 追大曝光量（※3）460/70135

マスクレス露光装置MX-1205 曝光扫描速度9/4.5mm/s 有效曝光区域100 x 100 追大曝光量（※3）100/50

主要规格

MA-1200、MA-1400

	MA-1200	MA-1400
基板尺寸	追大 200 x 200mm ø4″ ～ ø6″	追大 400 x 400mm
光源	超高压水银灯：500W or 1kW	超高压水银灯：2kW or 3.5kW
外观尺寸及重量	本体尺寸	W1240 x D1100 x H1725 mm	W1440 x D1590 x H1882 mm
本体重量	400kg	400kg(包含无尘机房)
光源重量	－	250kg
选购项	无尘机房、背面对位、硬接触(真空密着式)、自动对位、对应破碎基板等特殊尺寸(需商洽)。

MA-1200 MA-1400

基板尺寸追大 200 x 200mm ø4″ ～ ø6″ 追大 400 x 400mm

光源超高压水银灯：500W or 1kW 超高压水银灯：2kW or 3.5kW

外观尺寸及重量本体尺寸 W1240 x D1100 x H1725 mm W1440 x D1590 x H1882 mm

本体重量 400kg 400kg(包含无尘机房)

光源重量－ 250kg

选购项无尘机房、背面对位、硬接触(真空密着式)、自动对位、对应破碎基板等特殊尺寸(需商洽)。

※基板尺寸和水银灯瓦数及特殊规格可商洽