光刻机介绍

曝光装置  MA-1200 基板追大尺寸 200 x 200mm ø4″ ～ ø6″ 

光源 超高压水银灯 ：500W or 1kW

曝光装置 MA-1400  基板追大尺寸400 x 400mm

光源 超高压水银灯 ：2kW or 3.5kW

LED,LN曝光装置MA-4000 圆晶尺寸Ø2～4″或者Ø4～6″

光源 超高压汞灯：500W 或 1kW

Ø200mm/Ø150 mm 对应曝光装置MA-4301M   材料SI 玻璃， 对齐精度自动对齐：+/- 1 μm（
峰值搜索）

Ø300mm对应曝光装置MA-5301ML  光源超高压汞灯：3.5kW  Ø200mm规格也可对应

マスクレス露光装置MX-1201 曝光扫描速度43.94mm/s  有效曝光区域200 x 200 追大曝光量（※3）245/70/245+70
マスクレス露光装置MX-1201E  曝光扫描速度22.5mm/s  有效曝光区域200 x 200 追大曝光量（※3）460/70135

マスクレス露光装置MX-1205  曝光扫描速度9/4.5mm/s  有效曝光区域100 x 100 追大曝光量（※3）100/50

主要用途

• 触摸屏、电子纸、光学胶片(3D等)、有机EL、锂离子电池、太阳能电池、印刷线路板

适合触摸屏、电子纸、光学胶片(3D等)、有机EL用掩膜等胶片形状基材的曝光机。对应Roll to Roll,可实现软性、薄型、轻量基材的大量生产。