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注射泵
Ossila注射器泵(也称为注射器驱动器)通过电机驱动注射器活塞,以的速率移动固定体积的溶液,输送/去除特定量溶液。根据注射器的内径和电机移动的距离,可计算出溶液移动的体积和速率。特点•高精度、可连续传输液体,范围从nl/s到ml/s;•设计简单,适应尺寸从5μl到50ml的注射器;•流量范围广泛,从1nl.s-1到3ml.s-1;•高度的用户灵活性-在输液和退液模式下均可操作;•每个注射泵可单独编程,一次性可编制20个不同的程序,每个程序包含多达100个独立的操作步骤,流量,速度和时间均可控; 参考价面议光刻胶/显影液/剥离液
光刻胶又称光致抗蚀剂,是一种对光敏感的混合液体。其组成部分包括:光引发剂(包括光增感剂、光致产酸剂)、光刻胶树脂、单体、溶剂和其他助剂。在紫外光等光照或辐射下,溶解度会发生变化的薄膜材料。AZ4562正性厚光刻胶,具有粘附力,在普通湿法蚀刻和电镀工艺中具有粘附力,广泛应用于半导体行业。AZ5214这种特殊的光刻胶用于需要负壁轮廓的剥离技术(lift-of工艺)。由酚醛清漆树脂和萘醌二叠氮化物作为光敏化合物(PAC)组成的正性光致抗蚀剂,它们也可反转成负胶,从而产生的掩模。SU-82000系列环氧 参考价面议紫外掩膜对准光刻机/曝光机
光刻机(MaskAligner)又名:掩模对准曝光机,曝光系统,光刻系统等。常用的光刻机是掩膜对准光刻,所以叫MaskAlignmentSystem.一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序。Photolithography(光刻)意思是用光来制作一个图形(工艺);在硅片表面匀胶,然后将掩模版上的图形转移光刻胶上的过程将器件或电路结构临时“复制”到硅片上的过程。 参考价面议