特性：
1、FMR是负性感光抗蚀剂，有较好的耐酸、耐碱性。
2、FMR的解像性比较好，由于抗蚀剂中的金属离子含量极少，所以适合于半导体管（电晶体）、二极体、IC（集成电路）和LSI（大规模高密度集成电路）等方面使用。

使用方法：
1、表面处理：对金属板进行*的脱脂、脱锖，请用本公司的Neocupron（用水稀释5-10倍）和弱碱水（2%氨水）进行中和，脱脂后请充分用水洗。
2、涂布处理：可用多种涂布方法，如旋转、浸蘸、喷涂等。
3、烘干：置入热风恒温干燥器中，80-1000C，20分钟；或置于加热板上，80-1000C，2分钟。
4、曝光：用i线（365nm）~g线（436nm）曝光。
5、显像：使用FMR显像液，在常温下显影1分钟，用FMR洗涤液冲洗30秒。
6、烘烤：在1500C的情况下，加热20-30分钟，或置于加热板上，1500C，3分钟，可以提高耐腐蚀性。
7、蚀刻：按常规处理。
8、剥膜：使用FMR剥膜液，在常温下浸渍2-3分中，然后用水洗。