本研磨机为精密研磨抛光设备，被磨、抛材料放于研磨盘上，研磨盘逆时钟转动，修正轮带动工件自转，重力加压的方式对工件施压，工件与研磨盘作相对运转磨擦，来达到研磨抛光目的。

玻璃基片平面抛光机特 点：

     1．采用间隔式自动喷液装置，可自由设定喷液间隔时间。

     2．系列研磨机工件加压采用气缸加4的方式，压力可调； 抛光后工件表面光亮度高、无划伤、无料纹、无麻点、不塌边、平面度高等特点。抛光后工件表面粗糙度可达到Ra0.0002；平面度可控制在±0.002mm范围内。

     3．系列研磨机采用PLC程控系统，触摸屏操作面板，研磨盘转速与定时可直接在触摸屏上输入。

玻璃基片平面抛光机技术参数：

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