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种类： | 基本型 | 多层镍型 |
测量原理： | 利用与镀层、基材相对应的电解液、在一起电流所溶解的厚度和时间成正比，来测定膜厚的一种测量方式（即连用电化学中的库仑法来测定膜厚） | 1、 测量原理于基本型的相同 2、测量电位差是利用不同镍层之间的电位差异来反映各层镍的厚度基层闲电位差。 |
可测定材料： | 可被电解液所电解的金属层镀层，如：铜、镍、铬锌、银、金锡等。 | 基本型仪器可测量各种镀层的厚度及多层镍的层闲电位差 |
测量范围： | 0.33微米～99.99微米 | 厚度：0.33微米～99.99微米 电位差：-100mV～+400 mV |
准确度： | ±10 | 厚度：±10 电位差：±5 |
复现精度： | ＜5 | ＜5 |
测量值表示： | LED4位显示，其中两位为小数。打印数出四位数字，其中两位为小数。 | 除了拥有LED4位显示和4位打印输出以外还有绘圆仪输出电位差曲线，绘圆仪输出的圆形是X轴代表电位（mV），Y轴代表厚度（μm）的座标轴上显示的比例曲线。 |
测量面积： | A橡皮垫圈 φ2.55mm B橡皮垫圈 φ1.7mm | A橡皮垫圈 φ2.5mm B橡皮垫圈 φ1.7mm |
性能特点： | 操作简便，复现性好，可测量单层、复合层电镀。内置微电脑，直观显示各层厚度。 | 操作简便，复现性好，可测量单层、复合层电镀。内置微电脑，经过微电脑处理，直观显示各层厚度。 |
设备配置： | 主机、电解池、有机测量架、橡皮垫圈、表标准样板、打印纸及支架、试剂瓶等 | 主机、电解池、有机测量架、橡皮垫圈、表标准样板、打印纸及支架、试剂瓶、绘圆仪等 |
