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氧浓度及湿度监控系统
当前半导体使用到氮气柜的情形相当普遍,然而大多只是填充定量氮气,基本上并没有湿度设置的设计,或者氧浓度设置的设计
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自动去胶剥离机
晶片尺寸兼容3-8英寸圆形及方形基片去胶、剥离工艺
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HMDS涂胶机
一、产品概述: HMDS预处理系统的必要性:在半导体生产工艺中,光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节,涂胶质量直接影响到光刻的质量,涂胶工艺也显得尤为重要
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