产品特点：

•一射频电源可实现等离子增强从而显著降低实验温度;

•可通过炉体滑动达到快速升温和降温；

•可通过射频电源的频率来控制薄膜的应力;

•可通过工艺调节来控制化学计量；

•可沉积各种材料，如SiOx，SiNx，SiOxNy和(a-Si:H)等。

加热炉参数：

•温度：1100℃（<30min）：连续工作温度：1000℃：

•PID溫度控制器及30段可編程温控系统，控瀝精度：±1℃；

•输入电源：208- 240V AC，功率：1.2KW：

•炉膛保温材料采用高纯氧化铝多晶纤維，并且内炉膛表面涂有美国进口的高温氧化铝涂层，可以提高加热效率，反射率及延长仪器的使用寿命

射频电源：

真空系统：

•·采用TRP-12的双旋真空泵；

• KF25卡箍及波纹管用于连接管式炉与真空泵；

•真空度可达10-2Torr。

供气系统（可选）：

•客户可选购四通道质子流量计控制系统实现气体流量的精确控制（精确度：±0.02%）;

•流量范围：

•电压：208-240V， AC， 50/60Hz；

•气体进出口配件：6mm OD的聚四氟管或不锈钢管;

•不锈钢针阀用于手动控制气体进出；

• PLC触摸屏可以简便地进行气体流量设置。

产品尺寸和重量：

•尺寸：1500mm L'600mm W^1200mm H

•·净重：160 kg

•运输重量：220 kg

质保：

一年保质期，终身维护，不包括炉管，硅胶密封圈和加热元件