紫外线清洗技术

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2021-08-04 09:54:54
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正阳工业清洗设备有限公司

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设备简介:当聚合物以类膜的形式稀疏分布时,通过UV光照射氧化反映可以进行到内部,聚合物最终分解成分子如CO2,H2O,O2,N2等,它们蒸发或者离散,从表面消失

详细介绍

设备简介 :当聚合物以类膜的形式稀疏分布时,通过UV光照射氧化反映可以进行到内部, 聚合物最终分解成分子如CO2,H2O, O2, N2等,它们蒸发或者离散,从表面消失。这些反映形成了清洗的效果。
UV清洗方法对于大块的污染来说就比较弱,但可以分解污染膜成分子并且清除。表1通过玻璃板的接触角度反映了各种清洗方法之间清洗力度的比较。在水洗中,接触角度不低于13度,但UV光干洗中,它可能低于4度。
消除有机污染物,提高湿度增强密着力,此外,结合传统的湿式清洗技术,清洗效果要更准碗。如图片1 -3中,湿度随着清理方法的不同而改变。

表1-通过水滴接触角进行清洗能力比较

UV光清洗技术可以减少表面污染到少于一个分子,到目前为止,一直被用于终端过程。反向的清洗概念(在UV光清洗之后又增加了一个纯水湿洗的过程)已经应用到实际的生产领域。图形1显示了UV光清洗移除了几乎所有的油脂膜之后,表面又被纯水清洗,于是所有的自由粒子都被洗掉已达到一个无污染的表面。这是的清洗方法,不仅应用到LCD制造中,而且应用到了光刻和reticules的制造中。

Fig.1 Reve rsal concept of cleaning process
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