二氧化硅分散改进型胶体磨
二氧化硅分散改进型胶体磨

CMD2000二氧化硅分散改进型胶体磨

参考价: 面议

具体成交价以合同协议为准
2022-11-29 11:30:50
414
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上海依肯机械设备有限公司

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产品简介

CMD2000系列研磨分散机的特点:
① 线速度很高,剪切间隙非常小,当物料经过的时候,形成的摩擦力就比较剧烈,结果就是通常所说的湿磨
② 定转子被制成圆椎形,具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。
③ 定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离
④ 在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。
⑤ 高质量的表面抛光和结构材料,可以满足不同行业的多种要求。

详细介绍

、转速可达14000转,相较其它厂家2900转左右高出约三倍:

2、磨头结构更精密并有*设计,使之研磨作用力更大,效果更好。

3、德国进口双端面机械密封拥有*结构和特殊材质保证高速运转和长使用寿命。

4、CMD2000/5中试型研磨机与大型工业管线式量产机型配置基本相同。各种工作头的种类及相应线速度相同,中试过程中的工艺参数在工业化后之后不用重新调整,从而将机器型号升级到工业化的过程中的风险降到低。

     改性白炭黑研磨分散机是由胶体磨乳化分散机组合而成的高科技产品。

    *级由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。

 

     第二级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子(乳化头)和批次式机器的工作头设计的不同主要是因为在对输送性的要求方面,特别要引起注意的是:在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是转子齿的排列,还有一个很重要的区别是不同工作头的几何学特征不一样。狭槽数、狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。根据以往的惯例,依据以前的经验工作头来满足一个具体的应用。

 

cmd2000研磨分散机的技术参数:

型号

流量

L/H

转速

rpm

线速度

m/s

功率

kw

入/出口连接

DN

 

CMD2000/4

300

9000

23

2.2

DN25/DN15

 

CMD2000/5

1000

6000

23

7.5

DN40/DN32

 

CMD2000/10

2000

4200

23

22

DN80/DN65

 

CMD2000/20

5000

2850

23

37

DN80/DN65

 

CMD2000/30

8000

1420

23

55

DN150/DN125

 

CMD2000/50

15000

1100

23

110

DN200/DN150

 

 

流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性,同时流量可以被调节到大允许量的10%。

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