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通用设备干燥设备烘箱

PVD-090-HMDS HMDS预处理涂胶烤箱真空烘箱干燥箱

供应商:
上海实贝仪器设备厂
企业类型:
生产厂家

产品简介

HMDS预处理涂胶烤箱真空烘箱干燥箱
HMDS用于光刻晶片涂胶工艺,自动化工艺流程,操作简单。在半导体生产工艺中,光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节。

详细信息

HMDS预处理涂胶烤箱真空烘箱干燥箱

HMDS预处理涂胶烤箱真空烘箱干燥箱

HMDS预处理真空烘箱

 

一、预处理系统的必要性:

在半导体生产工艺中,光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节,而涂胶质量直接影响到光刻的质量,涂胶工艺显得更为必要,尤其在所刻线条比较细的时候,任何一个环节出现一点纰漏,都可能导致光刻的失败。在涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的,而晶片表面的羟基和残留的水分子是亲水的,如果在晶片表面直接涂胶的话,会造成光刻胶和晶片的黏合性较差,甚至造成局部的间隙或气泡,涂胶厚度和均匀性都受到影响,进而会影响了光刻效果和显影,尤其是正胶,显影时显影液会侵入光刻胶和晶片的连接处,容易造成漂条、浮胶等,导致光刻图形转移的失败,同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀,所以涂胶工艺中引入一种化学制剂HMDS(六甲基二硅氮甲烷,英文全名Hexamethyldisilazane)可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到晶片表面后,经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物,是一种表面活性剂,它成功地将硅片表面由亲水变为疏水,其疏水基可很好地与光刻胶结合,起着偶联剂的作用。

 

二、产品结构与性能

2.1产品结构:

1.设备外壳采用优质冷轧钢板表面静电喷塑,内胆316L不锈钢材料制成;无缝不锈钢加热管,均匀分布在内胆外壁,内胆内无任何电气配件及易燃易爆装置;钢化、双层玻璃观察窗,便于观察工作室内物品实验情况。

2.箱门闭合松紧能调节,整体成型的硅橡胶门封圈,确保箱内保持高真空度。

3温度微电脑PID控制,系统具有自动控温、定时、超温报警等,LCD液晶显示,触摸式按键,控温准确可靠。

4.智能化触摸屏控制系统配套日本三菱PLC模块可供用户根据不同制程条件改变程序、温度、真空度及每一程序时间。

5HMDS气体密闭式自动吸取添加设计,使真空箱密封性能确保HMDS气体无外漏顾虑。

6.无发尘材料,适用百级光刻间净化环境使用。

三、HMDS烘箱技术参数

 

规格型号

PVD-090-HMDS

PVD-210-HMDS

容积(L

90L

210L

控温范围

RT+10250

温度分辨率

0.1

控温精度

±0.5

加热方式

内腔体外侧加温

隔板数量

2PCS

3PCS

真空度

<133Pa(真空度范围100100000pa

真空泵

抽气速度4升/秒,型号DM4

电源/功率

AC220/50Hz3KW

AC380V/50Hz4KW

内胆尺寸W*D*H

450×450×450

560×640×600

外形尺寸W*D*H

800×630×850

1220×930×1755

外形尺寸(新款)

980×655×1600

1220×930×1755