Plasma 2000 全谱ICP 全谱ICP光谱仪-Plasma 2000
产品简介
详细信息
钢研纳克ICP光谱仪源于钢铁研究总院,35年电感耦合等离子体光谱仪方法开发经验,数十项ICP检测标准的起草单位,ICP光谱仪产品标准GB/T 36244-2018起草单位,重大科学仪器专项《ICP痕量分析仪器的研制》牵头单位,最懂ICP应用的国产ICP光谱仪制造商。央企品牌，上市公司，品质之选！欢迎. ：文经理 电话: 手机
仪器特点：
稳健高效的全固态光源
全固态射频发生器，体积小、效率高，全自动负载匹配，速度快、精度高，能适应各种复杂基体样品及挥发性有机溶剂的测试，具有优异的长期稳定性。
垂直炬管的设计，具有更好的样品耐受性，减少了清洁需求，降低了备用炬管的消耗。
简洁的炬管安装定位设计，快速定位，精确的位置重现。
实时监控仪器运行参数，高性能CAN工业现场总线，保障通讯高效可靠。
精密的光学系统
中阶梯光栅与棱镜交叉色散结构，使用超纯SiO2棱镜，高光路传输效率，保证了深紫外区的元素测量。
优化的光学设计，采用非球面光学元件，改善成像质量，提高光谱采集效率。
光室多点充气技术，缩短光室充气时间，提高紫外光谱灵敏度及稳定性，开机即可测量。
光室气路独立，可充氮气或氩气。
包围式立体控温系统，保障光学系统长期稳定无漂移。
进样系统
仪器配备系列经过优化的进样系统，可用于有机溶剂、高盐/复杂基体样品、含氢氟酸等样品的测试。
使用一体式炬管，易于维护，转换快速，使用成本低。
使用质量流量控制器控制冷却气、辅助气和载气的流量，流量连续可调，保障测试性能长期稳定。
4通道12滚轮蠕动泵，泵速连续可调，确保样品导入稳定性。
检测器
大面积背照式CCD检测器, 全谱段响应，高紫外量子化效率，抗饱和溢出
具有极宽的动态范围和极快的信号处理速度
一次曝光，完成全谱光谱信号的采集读取，获得更为快速、准确的分析结果
同类产品中靶面尺寸，百万级像素，单像素面积24μm X 24μm
三级半导体制冷,制冷温度低于-35℃，具有更低的噪声和更好的稳定性