华光RP-7型电路板光绘胶片
产品简介
详细信息
■用途:
RP-7型电路板光绘胶片是我公司自主研发的、适合于激光波长为630—670nm的氦氖激光和红激光二极管曝光光源的光绘机,专为电路板制作设计的光绘胶片。本产品具有良好的尺寸稳定性、感光度适中、显影适应性强、线条再现性良好、适合高温快速加工等特点。
■主要性能特点:
应用尺寸稳定性良好、厚度为7mil(0.175mm)的聚酯片基;
药膜面不带磨砂,可消除磨砂颗粒在乳剂层中引起的针孔等缺陷;
高反差、高分辨率、底灰小、高密度;
线条再现性好、清晰度高;
优良的防静电和防灰尘技术;
适应各种陶药的高温快速加工,显影时间可达25秒左右;
暗室上片。
■规格(英寸):
■包装:
散叶片盒装。
■启封与安全灯:
本胶片应在全黑或暗绿灯条件下启封和应用,暗绿色安全灯距离胶片应不少于1.5米,同时避免直射。使用时应小心因摩擦、折叠、油渍、指纹等因素造成胶片的损害。
■曝光:
曝光量是由光绘机特性和显影加工条件共同决定的,曝光量必须根据不同型号的光绘机通过不同的曝光实验测试,从而获得的曝光量,同时由于显影时间和温度对图像的品质也有很大的影响,因此,在调整光绘机曝光量时,也要对显影温度和时间进行适当微调,以确保在特定曝光量条件下获得高品质的图像。RP-7光绘在曝光之后应尽快冲洗。
■尺寸稳定性:
它是指感光材料由于湿度和温度的变化以及由于冲洗和老化引起的尺寸变化。
RP-7胶片使用0.175mm厚度聚酯片基,随着环境温、湿度的变化,胶片的尺寸可在长度和宽度方向上也会有一定的变化。
尺寸的稳定性参数
a)温度改变影响0.00016%/℃ b)湿度改变影响0.001%/%RH
■冲洗加工性:
采用633nm激光曝光,使用的HG-2000套药,温度控制在32-35℃,时间为30秒。
推荐显影加工条件(可根据密度要求适当调整显影时间):
胶片的干燥温度以40-50℃,超过50℃时会增加底灰密度、胶片尺寸变化等弊病。
本产品推荐使用华光HG-2000和HG-963型套药,也可使用爱比西、太行、科艺等其它品牌的显影套药。
备注:水洗时尽量使用循环水,以免水洗不使胶片长时间放置时变黄。
■储存:
干冷保存,储存温度应低于20℃,相对湿度小于65%。
湿热保存将会缩短胶片的保质期和使用寿命、胶片的收缩率增加等。
避免受放射性或其它有害物质的侵蚀。
■保质期:
十八个月
■执行标准:
HG/T2172-2003