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双面对准紫外光刻机

型号：URE-2000S/25型　

该机采用创的CCD图像底面对准技术，单曝光头正面曝光实现双面对准的总体设计技术。采用新颖的高精度、多自由度掩模—样片精密对准工件台结构设计，掩模—样片对准过程直观，套刻对准速度快、精度高。掩模板与样片的放置采用推拉式基准平板、真空吸附式，操作方便。

采用创新技术——积木错位蝇眼透镜平滑衍射效应和实现均匀照明；

1、采用三爪和球气浮同时找平，无论大片、小片调平精度均高；

2、具备真空接触曝光、硬接触曝、压力接触曝光，以及接近式曝光四种功能；

3、自动分离对准间隙和消除曝光间隙，间隙分离可达500μm；

4、高倍率双目双视场显微镜和19英寸宽屏液晶显示同时观察对准过程，

并提供USB输出；既满足高精度对准，又可用于检测曝光结果，且曝光结果和

方便存储；

5、电机机构、弹性元件和传感器保证接触曝光压力合适且重复性好；

7、曝光波长采用纯净365nm,冷光照明（曝光面能量15mW/cm ，温度小于30度）；

8、对准完成，自动消除曝光间隙，无横向漂移且可通过监视器观察；

9、快门可以单独开启，也可以数字设定自动倒计时曝光（设定范围0.1s-9999.9s）；

10、采用350W进口（德国）直流汞灯，可调节光的能量密度；

11、汞灯具有高亮度和“待机”两种方式，即曝光时采用高亮度照明，而不曝光

时采用低亮度的“待机”，从而延长了汞灯寿命。

12、设备外形美观精制，性能非常可靠；

13、上下片、版十分方便，自动化程度很高，操作简便。

二．技术参数

1、曝光面积：110mm×110mm

2、曝光波长：365nm

3、分辨力：1.2μm（胶厚1.5um的正胶）

4、对准精度：单面±0.8μm，双面±2.5μm

5、掩模尺寸：3寸、4寸、5寸、7寸

6、承片台：2寸、3寸、4寸、6寸

7、样片尺寸直径Ф30mm--Ф150mm(可适应非标准片或碎片) 厚度0.1mm-6mm(可扩展为15mm)

8、照明均匀性：±3.5%（Ф100mm范围）±5%（Ф150mm范围）

9、掩模相对于样片运动行程： X:±5mm; Y:±5mm; θ: ±6度

10、汞灯功率：1000W（直流　德国欧司朗长寿命型）

11、曝光方式：定时（到计时方式0.1s—9999.9s任意设定）

12、胶厚：400um

13、光源平行性：6度

14、双目双视场显微镜：物镜三队：4X、10X、20X，目镜三对：10X、16X、20X

应用领域

集成电路芯片、电子封装、微电子机械系统、微光学元件、红外探测器生物电泳芯片、激光二极管光刻、光栅光刻，波导阵列光刻、液晶显示声表器件、平板显示器、大尺寸光栅、码盘刻划等