智能全自动等离子体化学气相沉积设备
产品简介
详细信息
产品用途与特点
1、本设备可在硅片、陶瓷、玻璃、石英、
金属等材料表面沉积 SIOx、SINx、非晶
硅、微晶硅、纳米硅、SIC、类金刚石
等多种薄膜，并可沉积掺杂薄膜。沉积
的薄膜具有良好的均匀性、致密性、粘
附性、绝缘性。
2、设备通过对真空系统、工作压强、电源
系统、工艺进气、温度及整个工艺过程
的控制，使功工艺重复性、稳定性、可
靠性得到有效保证，为用户提供优良的
研发和生产平台。
3、要应用于微电子、光电子、通讯、微
机械、新材料、新能源等领域的器件研
发和制造。
4、产品适合于科研院所、大专院校、中小型生产企业的科研及教学。
产品主要技术指标
1、真空系统：分子泵机组
2、沉积室数量：单室（601、801）双室（802）
3、样品尺寸：4-6 英寸/601、8 英寸/801、802
4、工作台温度：基本配置 300℃，或用户定制
5、沉积速率：20nm~600nm/min（视材料与工艺）
6、沉积不均匀性：±5%
7、工艺气体：标配 4 路气路，或用户选配
8、电度调节：PECVD-601 支持
9、功率源系统：中频、高频可选配
10、人机界面：Windows 风格界面、触屏操作
11、关建部件：可选配进口、国产
12、操作方式：可选半手动、全自动控制模式